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產(chǎn)品分類(lèi)
公司主營(yíng)產(chǎn)品
文生真空科技股份有限公司
公司簡(jiǎn)介
文生真空科技股份有限公司(簡(jiǎn)稱文生公司)成立於民國(guó)九十三年,我們是真空熱處理爐與金屬射出成型真空燒結(jié)爐等的真空熱製程設(shè)備專(zhuān)業(yè)製造商。為了提升現(xiàn)今真空熱製程設(shè)備與產(chǎn)品製程上的適用性,文生公司不斷嘗試真空設(shè)備的改良,以提供客戶更具符合產(chǎn)品製程上適用的真空熱製程設(shè)備。
我們不僅提供您真空熱製程設(shè)備,并且也提供您製程初步上的協(xié)助,方便您對(duì)接下來(lái)產(chǎn)品的生產(chǎn)能夠銜接。
我們的經(jīng)營(yíng)理念為應(yīng)用技術(shù)與知識(shí),創(chuàng)新的方法,提供完整的設(shè)備與製程解決方案。
真空熱製程簡(jiǎn)介
與傳統(tǒng)的常壓氣氛爐熱處理粗略的比較,熱處理不再須要考慮爐內(nèi)氣氛和相對(duì)爐況條件的碳勢(shì)和露點(diǎn)。真空爐具有非常小量的殘留氣體或氣氛。在沒(méi)有洩漏的爐體中,殘留氣體10-3Torr下,意味著只含有少於0.1%的原有氣體殘留。殘留氣體主要成份為水氣以及來(lái)自密封材、真空膏、真空油等有機(jī)的氣體。氧氣成份,相較於大氣壓下似乎少於1ppm。假設(shè)真空爐中殘留氣體均為水氣,水氣含量?jī)H約大氣下的1.5ppm或-80℃時(shí)的露點(diǎn)。10-4Torr下,氣體露點(diǎn)被估計(jì)在-90℃以下。
進(jìn)行真空熱處理時(shí),必須考慮各元素的蒸氣壓,已決定其須要的真空度或回充壓力程度。金屬蒸氣壓的解釋如下:蒸氣壓是當(dāng)物質(zhì)與其蒸氣的平衡狀態(tài)時(shí),所施予工件的氣體壓力。若金屬在一密閉容器中,分子將不斷地脫離固體表面,直到其脫離速率與凝結(jié)速率達(dá)到平衡。此平衡壓力是在此一溫度下的蒸氣壓。物質(zhì)的蒸氣壓僅與溫度有關(guān)。
一般製程條件是一組真空度與溫度的組合,以加速氣體的吐氣,并防止合金成份的蒸發(fā)。所以,具有高濃度易蒸發(fā)元素的合金,如黃銅(含Zn)不適於在真空爐中進(jìn)行熱處理。若黃銅在真空中,加熱至540℃并且真空度在0.1Torr,其中的鋅將快速蒸發(fā)掉,黃銅會(huì)很快地變成海棉銅。如鋁、鉛、鋅與鎂等金屬元素具有較高的蒸氣壓。若在元素的蒸氣壓超過(guò)爐中壓力的狀況下,將其加熱到某一溫度以上,該元素將快速蒸發(fā)。為了適當(dāng)處理某些金屬或合金,壓力必須限定於微真空的范圍或應(yīng)用一回充的分壓。
例如,若純鎂在10-4Torr的壓力下,加熱至790℃將會(huì)蒸發(fā)。假使材料被加熱到較高的溫度或降低壓力,并在此條件下保持一適當(dāng)?shù)臅r(shí)間,金屬將會(huì)減少甚或消失,這些氣體并會(huì)凝結(jié)於爐中較低溫處和(或)抽氣系統(tǒng)中。回充氣體或較高的分壓可大量降緩蒸發(fā)速度。但是鎂與其他金屬形成合金,如固溶於鐵中,其有效的蒸氣壓會(huì)被降低。合金的總蒸氣壓是各個(gè)元素的蒸氣壓乘於其濃度的總和。鎂在1%的Mn合金中790℃下,其蒸氣壓約10-6mmHg。所以對(duì)蒸氣壓數(shù)據(jù)資料的認(rèn)識(shí)對(duì)金屬真空熱處理是相當(dāng)重要的。
真空爐可使用於下列目的
1.防止工件表面的反應(yīng),例如脫碳或氧化。
2.去除表面污染,如氧化膜和潤(rùn)滑劑的殘留痕跡。但后者常造成真空腔體的嚴(yán)重污染。
3.對(duì)工件表面增加物質(zhì),如滲碳、氮化。
4.利用真空的除氣效果,從金屬中去除溶解的污染物,如從鈦中除去氫、氧。
5.以硬銲或擴(kuò)散接合方式,接合金屬。
營(yíng)業(yè)項(xiàng)目
真空熱處理設(shè)備(設(shè)計(jì)、製造、銷(xiāo)售、維修)
本公司以客戶製程上之需求,做適當(dāng)?shù)脑O(shè)計(jì),為客戶量身訂作一套更符合製程上需求的真空熱處理設(shè)備,來(lái)滿足客戶的需求;另外也為客戶維修故障之熱處理設(shè)備。
舉凡:可依其工件大小、工件放置方式,來(lái)設(shè)計(jì)工作加熱區(qū)尺寸;加熱速率、冷卻速率、抽氣速率、*終真空度,均可依需求設(shè)計(jì)。
◎真空熱處理設(shè)備包括:
○1.真空熱處理爐:
真空淬火爐
真空回火爐
真空硬焊爐
○2.真空燒結(jié)爐:
真空燒結(jié)爐用於MIM
真空燒結(jié)爐用於PM
○3.真空燒燼爐用於LED製程:
◎真空熱處理設(shè)備標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格:
◎直立式真空爐V800-HT
◎臥式真空爐H600-HT
◎用於MIM真空脫臘燒結(jié)爐VDS150
◎真空燒燼爐HBM120-G
鄭重聲明:以上信息由企業(yè)自行發(fā)布,該企業(yè)負(fù)責(zé)信息內(nèi)容的完整性、真實(shí)性、準(zhǔn)確性和合法性。本網(wǎng)站對(duì)此不承擔(dān)任何責(zé)任。